Principium processus valvae valvae portae electroplaticae discutitur

Principium processus valvae valvae portae electroplaticae discutitur

Praecipua causa crepuit potentiae plantae valvae corporum in cobaltis basi mixturae imbre glutino plerumque altae valvae rigoris. In operatione glutino arcus piscinam solubilem generat, quae situm glutino liquefacit et calefacit, et temperatura post glutino celeriter defluit, et metalli fusilis concrescit ad glutinum producendum. Si temperatura calefactionis gravis est, temperatura glutino ad accumsan velociter reducenda est. Sub praemissa celeri refrigeratione strato glutino, DECREMENTUM ratis glutini stratum velocior est quam DECREMENTUM ratis valvae corporis. Sub actione talis accentus, stratum glutinum et materia originalis accentus distrahentes cito formant internum, et accumsan glutino rimas. Valvae stationis potentiae conditio operativa est plerumque 540℃ vapor caliditatis calidi, ut materia valvae portae principalis est 25 vel 12crmov, valvae corporis. materia valvae portae principalis est 25 vel 12crmov, et materia valvae corporis rudis glutino cobaltis-basi mixtura d802(sti6) filum glutino est.
d802 congruit edcocr -A in gb984 specificatione, quae aequiparatur ercocr -A in aws.
d802 Materiae rudis continue aperiri et claudi possunt ab opere ultra-alto pressionis et caliditatis caliditatis, cum excellentia gerunt resistentia, repugnantia impacta, resistentia oxidationis, resistentia corrosionis et resistentiae cavitatum.
Metallum conglobatum de ErCoCr-A electrode et filis filli clavi in ​​Aws specificatione insignitur per mechanismum subeutecticum constans circiter 13% chromium retis cementitici eutectici in Cochromium-Tungsten ion cristallum distento distributum. Effectus perfectus est mixtio resistentiae rudis materiae ad damnum vis gravis et durities necessaria ad resistendum ictum quorundam generum processuum fluxus.
Cobaltum stannum bonum habet repugnantiam ad metallum - metallum lapsum, praesertim scabere resistentiam sub alto onere.
Fortis compositio mixturae in subiecto meliores praebere potest repugnantiam corrosionis et resistentiae oxidationis.
Cum metallum fusile stannum cobaltumissum in statu calido (intra 650℃) est, robur eius significanter non decrescit. Solum cum temperatura supra 650℃ oritur, eius vis insigniter decrescet. Cum temperatura ad normalem statum temperaturae redit, vires eius ad duritiem initialem revertentur.
Revera, cum materia prima curationem caloris post glutino peragit, superficies effectus laedere non facile est. Plectrum stationis potentiae debet spargi cum stannum cobaltum-substructum in foramine medio valvae corporis, ut valvae portae pressionis altae faciei ab arcu glutino fiant. Quia facies in profunda parte mediae foraminis valvae corporis est, imbre glutino verisimillimum est causare defectus tales ut nutus cucurbitae et resiliunt.
Processus experimenti tenui foraminis d802 imbre glutino peractus est per exempla producendo et processus exigente. Ratio declinationis facilis est in processu test nexus.
① Welding materialis superficies pollutio environmental.
② Welding materiae humorem hauriunt.
③ Materia originalis et fillor metalli plus sordes et maculas olei continent.
④ glutino positio rigoris valvae corporis magna est per glutino electrico (praesertim dn32~50mm).
(5) Ratio technologica calefactionis et caloris post glutino curatio irrationabilis est.
Processus glutino non est rationabilis.
⑦ Delectatio materiae glutino irrationabilis est. Causa principalis crepuit corporum valvae plantae potentiae in cobaltis basi mixturae imbre glutino plerumque altae valvae rigoris. In operatione glutino arcus piscinam solubilem generat, quae situm glutino liquefacit et calefacit, et temperatura post glutino celeriter defluit, et metalli fusilis concrescit ad glutinum producendum. Si temperatura calefactio humilis est, accumsan temperatura glutino celerius reduci debet. Sub praemissa celeri refrigeratione strato glutino, DECREMENTUM ratis glutini stratum velocior est quam DECREMENTUM ratis valvae corporis. Sub actione talis accentus, stratum glutinum et materia originalis accentus distrahentes cito formant internum, et accumsan glutino rimas. Bevel anguli prohiberi debent positiones producentes glutino.
Calor temperatus nimis est humilis, et calor in operatione glutino cito dimittitur.
Solidum iacuit temperatus nimis humilis, accumsan glutino refrigerationis celeritas nimis celeris ad materiae rudis glutino glutino.
Cobaltum materia basi mixturae glutino ipsa duritia rubra altam habet, cum laborantes in 500~700℃, vires conservare possunt 300~500hb, sed ductilis eius humilis est, resistentia rima infirma est, facile ad rimas crystallinas vel rimas frigidas producendas; ante glutino calefieri oportet.
Temperatura calefactio a magnitudine operis dependet, et generalis calefactio amplitudo 350-500℃ est.
Electrode glutino efficiens integrum servari debet ante glutino humoris effusio ne.
In glutino placenta ad 150℃ pro 1h coquitur et deinde in filum cucurbitulae insulationis cylindrici coquitur.
Arcus r Angulus foraminis tenuium imbrium glutino esse debet quam maxima, vulgo r≥3mm, si processus permittit.
dn10 ~ 25mm valvae corporis valvae ab imo vadis foraminis cum filo glutino conflari possunt, ut accumsan solidum temperies ≥250*(2, in medio arcus, arcus ad tardam celeritatem filo glutino memorato constringi possit.
Productum workpiece in fornace calefactum (250℃) ad 350 10 20℃ ante glutino. Post 1.5h velit fermentum, glutino peracta est.
Simulque ≥250c temperamentum solidum iacuit, omnem finem cicatricis glutino glutino temperans. Post glutino corpus valvae in fornacem (450℃) statim pro calore velitationis et insulationis mitti debet. Cum temperatura massae vel temperaturae glutini fornacis exstinguitur usque ad 710±20℃, calor velit et velit pro 2h et tunc refrigerandus fornaci. Cum temperatura moderatio dn maior est quam 32mm, corpus valvae in figuram conflari debet primum problema solvendae elasticitatis inaequalis per nimiam rigorem post spargit glutino cobalti-almi fundati. Ante operationem glutino imbre, productum workpiece purgatur, producti operis particula in fornacem (temperatus 250℃ est), calefactus ad 450~ 500℃, calor velit et 2 horas tenet, et glutino nuntiatur.
Primum, imbre superficiem cum cobalto-substructio mixturae filo glutino conglutinare, et cicatrix glutino cuiusque tabulato perfici. Eodem tempore temperaturam inter ≥250℃ strata tempera, et post omnem finem cicatricem imbre constringe.
Deinde repone martensiticum filum chalybe inactum (altum cr, ni relativum filum inactum ferro) ad pactionem U informibus pactionem. Postquam corpus valvae electrici conglutinatio peracta est, statim in fornacem (450℃) ponetur propter calorem insulationis et caloris conservationem. Post expleto glutino electrici huius massae vel fornacis, temperatura ad 720±20℃ exstinguendam elevabitur.
Rate calefactio 150℃/h est, et calor velit 2 horis servatur.
Electroplating piscina duas electricas gradus continet, producti operis partem generalem sicut cathode, accessum virtutis mutandi post constructionem campi electrostatici inter duas aspectus, sub impressione radicis electrostaticae metallorum seu thiocyanogenorum ad cathode translatio, et prope cathode. Ad duplicem tabulam sic dictam producendam, In hoc casu minor intentio circa cathode ion est quam quod in regione cathode vitanda, quae longum spatium ion transferre potest.
Metales positivi iones seu thiocyanogen dimissi per emissionem complexionum secundum duplicem stratum et in cathode perveniunt ad superficiem oxidationis generandi reactionem ad formandum moleculas metallicas.
Electroplatandi processum historicum electroplatandi relative mane est, superficies tractandi processum in principio investigationis et evolutionis maxime ad corrosionem hominum praeventionis et ornamenti occurrere debet.
Superioribus annis, evolutione industriarum et scientiarum et technicorum, continua progressio novarum processuum productionium, praesertim novarum materiarum efficiens emersus et compositarum technologiarum laminarum applicationis campum superficialis processus curationis valde dilatavit ac effecit ut pernecessaria pars superficiei engineering design.
Electroplating processum unum est technologiae metallicae electrodepositionis. Est processus obtinendi alluvium metalli in superficie solida per electrolysin. Propositum est notas superficiei materiae rudis solidae mutare, speciem emendare, resistentiam corrosionis emendare, resistentiam et frictioni resistentiam induere, vel classuram metallicam cum notis specialibus compositione praeparare. Da unicas electricas, magneticas, opticas, scelerisque et alias proprietates superficiei et alias proprietates processus.
Generaliter, Processus metallicae electrodepositionis in cathode componitur ex processibus sequentibus1) Calor translatio processus prae-patellationis ions positivorum vel earum thiocyanogenarum radicum in lithio altilium electrolytici ad cathode (fragmentum operis producti) superficiei vel superficiei translationis ob differentiam retrahitur.2) processus conversionis superficiei metalli iones positivi sive thiocyanogen earum radices in superficie electrici et in strato liquido circa superficiem oxidationis processus reactionis, sicut conversio thiocyanogenis ligandi seu reductionis numeri coordinationis.III) processus photocatalyticus metalli iones vel thiocyanogen in cathode ad electrons obtinendum, in moleculis metallicis 4) Processus formationis novus phase qui est ad novam periodum formandam, sicut formatio metalli vel aluminii mixturae. Electroplating cisternina continet 2 gradus electricas, productos workpieces sicut cathode generatim, accessum virtutis mutandi post constructionem campi electrostatici inter duas facies, sub impressione radicis electrostaticae metallorum seu thiocyanogenorum ad cathode translatio, et prope cathode. Superficies ad producendum stratum duplex sic dictum, dein intentio cathode ambiens ion minor est quam intentio ion in area ad vitandum cathode, Ad longum spatium trans- iones ducere posset.
Metales positivi iones seu thiocyanogen dimissi per emissionem complexionum secundum duplicem stratum et in cathode perveniunt ad superficiem oxidationis generandi reactionem ad formandum moleculas metallicas.
Non eadem est difficultas observationis et missionis positivi in ​​quovis puncto in superficie cathode. In nodo et angulo acuto crystalli, vena intensio et actio electrostatic multo maior est quam ceterae positiones cristalli. Eodem tempore, pinguedo insaturatus hypotheticus ad nodi crystalli et angulus angulus acutus maiorem adsorptionis facultatem habet. Et hic crimen et missionem apud hunc locum cancellos constantes moleculis in metallum formant. Praelatus incurrens et emissio situs huius affirmativae ioonis est oculus crystalli metallico obductis.
Sicut oculi per cristallum dilatant, iacuit incrementi monatomici formatur per scalam oeconomicam externam coniunctam. Quia cancellos constans superficies metalli cathodae continet terram accentus per cancellos dilatatos viribus constantibus, atomi gradatim ad cathode superficie addicti occupant solam partem continuatam cum structurae metallica substrati (cathode), cujuscumque differentiae. in cancellis constans geometria et specificationes inter metallum subiectum et metallum efficiens. Si structura hypothetica metalli coatingis nimis diversa est quam substratum, incrementum crystallizationis idem erit ac structurae hypotheticae fundamenti, et paulatim ad suam structuram molecularem stabilem relative mutant. Structura hypothetica electroalluvii pendet ab notis crystallographicis ipsius metalli congesti, et structura organica ex condicionibus processuum electrocrystallizationis quodammodo pendet. Firmitas alluvii omnino pendet ab intentione iono, commutatio currentis et superficiei superfactantis, et magnitudo crystalli electrocrystalis late dependet a superficie intentionis superfactantis.
Duae, singulae laminae metallicae processus singulae laminae metallicae ad solutionem platingae refert cum sola quadam metalli iones, post platingam ut unum modum efficiens efficiat.
Communes singulae laminae metallicae processuum maxime includunt tingui galvanizationem calidam, laminam cuprinam, nickel platationem, laminam immaculatam, laminam stannum et laminam stanneam, etc., quae non solum uti partes ferreas et alias corrosiones, sed etiam munus habent. ornatum consilio et mores malleabilitatis emendavit.
Vexillum electrode potentialis zinci est -0.76v. Nam ferro distent, zinci efficiens est tunica subanodica oxidatio, quae maxime ad vitandam corrosionem ferri adhibita est. Processus electrogalvanising in duo genera dividitur: calidum physicum tinget moveret et calfaciens sine cyanide tingat foventem.
Physica calida intingere moveret in aquea solutione functioni bonae laminae propriae, lenis et delicatae vestis, late usus, solutio plating dividitur in cyanididem, cyanidem humilem, cyanidum medium, et cyanidum altum, plures classes.
Sed quia substantia toxica est, proximis annis aptata est ut cyanidum microform et nulla cyanide laminae solutionem eligeret.
Solutio cyanide-liberum platationis acidum includit solutionem platationis phosphatae zinci, solutionem platingae salis, solutionem platationis potassae thiocyanatae et solutionem bractearum fluoride cardinem.
1. Partialis alcali calidum intingere moveret efficiens crystallum denique, bonum glossae, solutionem plating planam et altam plating facultatem bonae sunt, sino usum currentis intensio et temperatus amplitudine lata, parva corrosio in systemate.
Ad partes convenit cum vario processu electroplatandi et crassitudine efficiens supra 120µm, sed vis hodiernae solutionis platationis est relative humilis et toxicus.
Quae sequuntur observanda sunt in solutione schematis et processus platingae: 1} stricte moderari intentionem uniuscuiusque componentis in solutione platinga.
Concentratio valoris uniuscuiusque componentis solutionis aquae calidae-intinguae galvanizatae cyanidi (moll/L} conservari debet ut :2) solutionem in balineo, sodium hydroxide et gas compositionibus affinium attendere.
Cum sulfide compositio 50~100g/L excedit, conductivity solutionis laminae reducitur, et oxidatio anodicalis passivationis adhibenda est in methodo congelata (temperatus refrigerationis est -5℃, duratio supra 8h, carbonas potassium. retrahitur valor ad 30~40g/L). Vel ion de permutatione methodi (addendo aphronitrum aphronitri vel barium hydroxide depositionis in plating solutione) tractandum est. 3) anodicae oxidationis applicatio laminae ferri frigide involutus (zinc contentum 99,97%) observare debet ad manicam oxidationis anodicae, ad vitandum anodium lutum in laminae solutione natantis, ita ut litura non levis sit.
4) Sensus solutionis galvanizatae corporis calidi tingui ad residuum relative parva est, eiusque contentum licitum est: aeris 0.075 — 0.2g/L, plumbi 0.02 — 0.04g/L,0.05 — 0.15g/L, tin 0.05 — 0.1. g/L, chromium 0.015 — 0.025g/L, immunditias ferreas 0.15g/L· obliquas solutionem his modis solvi potest: Adde 12.5-3g /L sodium sulfidis, ut sulfidium ferro et plumbo praecipitare possit. et aliae claves metallicae positivi ad removendum: Adde pulveris zinci parum, ut aeris et plumbi in fundo piscinae ad removendum restitui possint: solutionem quoque obturaculum fieri potest, cathode currente robur est 0.1-0.2 A/cm2.
2 phosphate alkali zinci partialis calida intinge galvanized acidum partiale alkali zinci th calidum galvanized tingunt balneum compositio simplex, commoda ad usum, tenuis et nitida vestis, efficiens non facile marcescit, parva ratio corrosio, purgamentorum curatio est etiam facillima.
Sed solutio patellae campi homogeneae et altae facultatis platingae quam solutio patellae est pauper, intensio hodierna est humilis (70%~80%), super quamdam crassitiem ductilitatis emendatio efficiens.